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【QUICK Market Eyes 本吉亮】半導体回路の微細化に欠かせない「極端紫外線（ＥＵＶ）露光」への期待感が高まっている。第５世代移動通信システム（５Ｇ）導入によるデータ通信の超高速化は、スマホなどの高機能化とそれを支える半導体の高性能化をもたらす。先端デバイスに用いられる半導体では回路線幅７nm以下の超微細化が必要であり、超短波長であるＥＵＶ露光技術の採用が本格的に拡大している。最も重要な露光装置は蘭ＡＳＭＬが手がけるが、半導体マスク（フォトマスク）の材料になるマスクブランクスの欠陥検査装置で市場シェアを独占するレーザーテック（6920）への注目度も高い。 デファクトスタンダード...
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